第一百零四章

正所謂，數理化不分家。

顧律是數學和物理的雙料博士，沒有理由，化學能夠差到哪去。

納米二氧化鈰粉末的制備，非常簡單。

首先，稱取一定量的ceno336h2o 和六亞甲基四胺，配置成1：5的混合液。

第二步，混合液置於75攝氏度恆溫水箱中水浴保溫半小時。

第三步，在室溫環境下陳化，用離心法分離沉淀。

最後一步，將沉淀洗滌後置於真空干燥箱中，在80攝氏度下烘干。

這樣，經過以上四步之後，就可以得到納米二氧化鈰超細粉體。

二氧化鈰粉體呈球形，徑粒分布較均勻，徑粒約為10納米。

更重要的是，二氧化鈰質地較為柔軟，作為拋光磨料再也適合不過。

穿戴好白色的實驗服，戴好手套口罩，顧律有條不紊的開始操作。

將近一個小時後，顧律提著一個藍色的塑料小瓶，走出房間。

「顧先生，怎么樣」一直在門外等候的林經理走上前來問道。

「一切順利。」顧律摘下口罩，笑呵呵的把手中的塑料瓶遞給張經理，「我把實驗服換下來，然後我們再一塊去樓下車間試試效果。」

…………

幾分鍾後，顧律和張經理兩人再次走進車間。

黃師傅拿著一塊硅晶片板，一臉苦笑的走過來，「和顧先生說的一樣，這次的精度測試和之前相同，表面粗糙度都在1納米以上。」

顧律接過那塊硅晶片，放在手中翻轉仔細看了一下，然後用手指感受了一下觸感，點點頭，「應該就是拋光液的原因，正好二氧化鈰拋光液已經制備出來了，再上機試一下吧。」

「我想這次，結果肯定會和之前大不相同的。」顧律嘴角上揚，語氣中帶著無比的自信。

拋光機夾持住硅晶片，接著放入納米二氧化鈰粉末拋光液，最後，按下啟動按鈕。

機器開始運轉。

顧律抱著胳膊，雙眼緊盯著儀器。

同時，腦海中不停回憶著在普林斯頓大學圖書館中，看過關於這方面的內容。

在單硅晶片的化學機械拋光過程中，是主要存在化學腐蝕作用和機械磨削作用。

材料的去除，首先源於化學腐蝕作用。一方面，在拋光過程中，硅片表面局部接觸點產生高溫高壓，從而導致一系列復雜的摩擦化學反應。

納米二氧化鈰拋光液，其具有較高鹼性組分和較柔軟的納米磨料顆粒。

在這兩者作用下，使硅片表面形成腐蝕軟質層，從而有效地減弱磨料對硅片基體的刻劃作用，提高拋光效率和拋光表面質量，相應的，提高拋光後硅晶片的精度。

…………

半個小時的時間，一晃眼就過去。

機器和硅晶片摩擦的聲音逐漸減小，直到消失。

設備停下後，張經理和黃師傅齊齊把目光看向顧律。

顧律笑了笑，「拿出來吧。」

黃師傅小心翼翼的將通過使用二氧化鈰拋光液制得的硅晶片取出來。

「你們用什么設備看」顧律掃視了一眼，發現這邊並沒有顯微鏡之類的設備。

「樓上有一台原子力顯微鏡。」張經理笑著開口。

原子力顯微鏡

顧律知道，這玩意似乎貴的很。

再次回到那棟五層小樓，不過那台原子力顯微鏡就在一樓，倒是省去了爬樓的功夫。

走進那棟十幾平的小房間，顧律一眼就看到了張經理口中所說的那台原子力顯微鏡。