第253章 最大的難點(1 / 2)

撿到一個星球 明漸 1150 字 2021-02-22

光刻機的制造難度主要在於三大關鍵設備:光源、雙工件台、光刻機鏡頭。

而在光源方面,毫無疑問z國的世界最強的那個,這個結論從激光武器z國明顯領先m國便能得出。

一個小小的光刻機光源,完全難不倒z國的科研人員。

雙工件台就不太容易了,據說asm1研的基於磁懸浮平面電機的雙工件台產品,其掩模台的運動控制精度做到了2納米,大大提升了芯片加工的精度和效率。

如此先進的雙工件台,外國專家曾傲慢地說:「全世界沒有第二家機構能做出來。」

然而僅僅過去五年不到,z國菁華大學的一個科研團隊,研制的運動精度控制在2納米左右的雙工件台,成功通過了整機驗收。

關鍵技術指標達到了國際同類光刻機雙工件台技術水平。

雙工件台也被z國人攻克了。

最後就是光刻機鏡頭,近些年光學鏡頭領域進步飛,甚至有家民用衛星公司制造的光學衛星,分辨率就達到了1米、o.5米,地面的航母、軍艦、車輛一覽無余,甚至可以拍攝正在起飛的飛機,拍攝火箭射畫面,清晰度令人吃驚。

民用光學衛星的表現已如此誇張,軍用當然更不得了。

這反映出的,是z國在光學鏡頭領域的進步。

光刻機鏡頭自然也難不倒z國的科研人員。

所以光源、雙工件台、光刻機鏡頭這三大用於制造光刻機的核心設備,z國全部掌握。

這也正是asm1公司對z國放開光刻機銷售的原因……嚴厲的封鎖,光刻機領域,只會導致z國以更快的度取得突破。

兔子被逼急了,會要你的命。

而z國的光刻機至今沒有趕上國外最先進水平,一方面是市場份額被人牢牢把控;其次走相同的技術路線,會不可避免地會侵犯到asm1的知識產權,引專利官司。

再加上一些關鍵設備的禁售。

國產的光刻機展始終不溫不火。

即便如此,為了繞開國外的專利壁壘,z科院光電所另辟蹊徑,研制了一款全新的光刻機——

分辨納米光刻機。

這種光刻機采用了與傳統光刻設備完全不同的技術路線,用365納米近紫外光源,單次曝光最高線寬分辨力達到22納米,結合多重曝光技術後,可用於制造1o~9納米級別的芯片。

而這款光刻設備,使用的是波長更長、更普通的紫外光,在普通環境下便能完成光刻,意味著國產光刻機使用低成本光源,實現了更高分辨力的光刻。

制造成本只有asm1公司光刻機的幾分之一,乃至十幾分之一。

技術原理層面的突破,更是相當於別人在開山修路的時候,你打通了一條隧道。

不過分辨納米光刻機雖好,卻也存在一個較為嚴重的缺陷。

那就是曝光時間過長。

尤其實在芯片領域,euv光刻機曝光15秒便能完成的任務,分辨光刻機需要十多天。

更加形象的比喻是,傳統光刻機是直接拍出一張照片,分辨光刻則是拿一支筆,慢慢畫出一張圖片……效率差別巨大。