如果沒有周碩的干擾，從0.35微米工藝向0.25微米工藝過渡的光刻機，真實歷史上實際使用的是步進重復投影曝光技術。

在0.35微米工藝及之前，光刻機光學掩膜版的制作要求是非常高的。基本上和生產的芯片，是一對一全比例設計。

掩膜版投射的鏡頭需要與硅片進行完全的接觸，接觸中甚至要抽成真空狀態。然後光源系統的激光打到掩膜版上，投影部分的光刻膠就會被蒸發掉。把這樣的晶圓放到蝕刻機里面，化學葯品就會將沒有覆蓋光刻膠的部分腐蝕掉，然後再把晶圓轉移到離子注入機上進行離子注入……

把鏡頭和晶圓直接接觸，或者兩者之間只有小縫隙的接近，這種光刻機被稱之為接觸、接近式曝光技術。因為使用這種技術的光刻機鏡頭要和晶圓進行完全的接觸，對掩膜版、鏡頭、晶圓和光刻膠都有非常高的要求。

這種設計自有其好的一面，對鏡頭精度要求低，系統復雜度低，以及成像質量高之類的優點。但也有其致命的缺陷，0.35微米工藝基本上就是其經濟性的極限了。

0.25微米工藝光刻機想要延續接觸式曝光，整個系統需要的機械精密程度，掩膜版的成本、掩膜版和硅片的接觸緊密度，系統的集成難度都開始了幾何級數的增加。

於是在原本的歷史上，尼康也好、阿斯麥也好都選擇了另一條路，那就是非接觸式曝光。也就是投影式曝光技術。

這種技術說白了，就是好像平常用放大鏡聚集太陽光一樣。用棱鏡系統將光源從遠處投射到硅片上。這樣經過幾次聚焦、折射、再聚焦，最終投影到硅片上的圖形比掩膜版甚至可以小上4倍。

對於沉浸式光刻技術而言。投影式曝光技術最大的好處就是——避免了使用防水光刻膠的高成本。

其實說起來，周碩現在真的很想哈哈大笑一下，以發泄自己內心的暢快！

日本人費盡心思弄到了防水光刻膠的技術，原本他們這個技術至少是可以吃一代光刻機沒問題的。歷史上，早期沉浸式光刻機系統也是使用防水光刻膠的接近式光刻機，直到投影式光刻機成為主流防水光刻膠才退出了歷史舞台。

他現在拿出來的這份文件，自然就是投影式光刻機的技術專利，可以說這項技術一出防水光刻膠就是一個廢物了！

鶴田剛開始還不以為然，在他的心里早就已經認為泛翰集團是砧板上的魚肉。哪里還有什么翻盤的機會？

這個年代里，日本人不僅是驕傲的，而且也非常有驕傲的資本。整個九十年代，世界十大晶圓廠，日本人占了半數還多！

在鶴田和所有日本人看來，中國人能拿出沉浸式光刻技術純粹就是瞎貓碰死耗子，反正搞舉國體制不正是共產國際的強項嘛！

除了沉浸式光刻技術這種獨辟蹊徑的取巧之道，日本人絕不相信泛翰集團還能在其他方向產生突破，他們手里的底牌也就是僅此而已。

然而事實證明。中國人比他們想象的要強大的多。這對鶴田來說，不啻是一個巨大的嘲諷。

以技術先進為傲的尼康，竟然會屢屢失敗在一個小小的中國企業面前！這tm的不科學啊！

鶴田的臉色隨著他看完整個授權專利證書之後，就黑的好像一塊鍋底的黑炭了。任誰在看到自家花費巨資研發出來的技術。轉眼就被人給淘汰掉了，心里肯定都會恨不得把對方給咬死。

可惜，鶴田注定是不敢咬死人的。

步進投影技術不僅能擺脫對防水光刻膠的依賴。更重要的是只要稍作優化，立刻就又能把光刻機制程技術向前推進一個時代……

你們要不要這么逆天？！

鶴田很想這么吶喊一聲。如果讓泛翰集團這么肆無忌憚的發展下去，說不定連摩爾定律都要被打破了。

從0.35微米工藝都沒普及的程度。直接跳到0.18微米，可以想象這會在市場上掀起怎樣的腥風血雨。

鶴田牙縫里再敢蹦個「不」字，尼康就要被管殺不管埋了。

「周桑……這個文件是真的？」鶴田張了張嘴，腦袋里一團亂麻，只能問出這么沒有營養的問題了。